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影響高壓氫氣發生器加氫的因素分析

高壓氫氣發生器是有機化學實驗室和實際生產過程中一件非常重要的設備，不僅可以用作加氫反應的容器，而且也可用于液體和氣體需要充分混合的場合。加氫過程由于存在有氣、液、固三相的放熱反應，欲使反應進料（氣、液兩相）與催化劑（固相）充分、均勻、有效地接觸，反應器設計有多個催化劑床層，在每個床層的頂部都設置有分配盤，并在兩個床層之間設有溫控結構（冷氫箱），以確保加氫裝置的安全平穩生產和延長催化劑的使用壽命。由于反應器使用條件苛刻，在反應器的發展上主要圍繞提高反應器使用的安全性。所以無論是...

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氮氣發生器使用前的準備工作

1、配制電解液：用500ml蒸餾水溶解，300型為：130g氫氧化鉀，待溶液冷卻后注入液罐，并補充蒸餾水至液位刻度。注液口應該要位于儀器頂部，按標志取下蓋后馬上進行注液。工作時須保證儀器“O2"口暢通，如果儀器停止工作15天請將電解液抽出。2、將氮氣發生器輸出密封帽旋緊，接通電源線，打開按鈕開關?？諝狻癆ir"工作指示燈呈黃綠色，空氣輸出壓力表指針慢慢上升到0.4Mpa；“H2"系統自動啟動，流量顯示為：280~380ml/min，數分鐘后，“H2"的流量顯示為“000"或接...

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三種常見的氮氣發生器工作原理分析

1.電化學法制氮在氫氣電解池的陰極(產氫氣一側)通入高壓空氣，在催化劑作用下，氫氣和氧氣形成微觀燃料電池，完成氧化還原反應生產水，宏觀上表現即為空氣中的氧氣被除去，剩余氮氣。這種方法可以產出高99.995%的氮氣，但有幾個明顯的缺陷：一需用到高濃度氫氧化鉀溶液做電解液，這種強堿溶液與氣體直接接觸，對氣體質量有潛在影響，并有隨氣路輸出的可能性；二單位成本高；三反應過程只去除了空氣中的氧氣，其它雜質氣體并沒有涉及，并且反應過程對電解池制作技術要求很高，不合適的電解池制作技術會造成...

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CVD，MOCVD專用氫氣發生器操作注意要點

一、引言化學氣相沉積(ChemicalVaporDeposition，CVD)和金屬有機化學氣相沉積(MetalOrganicChemicalVaporDeposition，MOCVD)是兩種在半導體制造中廣泛應用的薄膜沉積技術。這兩種技術都需要使用高純度的氫氣作為反應氣體。因此，CVD，MOCVD專用氫氣發生器的操作對于保證薄膜質量和設備安全至關重要。二、儀器簡介CVD，MOCVD專用氫氣發生器是一種能夠產生高純度氫氣的設備，主要用于半導體制造中的CVD和MOCVD過程。該...

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使用大流量氮氣發生器時所需要注意的事項介紹

氮氣是空氣中體積分數Zda的一種惰性氣體，化學分子式為N2，通常狀態下無色無味，比空氣密度小。氮氣化學性質不活潑，常溫下難與其他物質進行反應，因此通常被用作保護氣體，液氮可用作深度冷凍劑，高純氮氣可用作色譜等儀器的載氣，氮氣的性質決定了它的用途的廣泛。大流量氮氣發生器采用的是電催化方式，其中電解池是操縱燃料電池的逆過程設計而成。由于壓力是不變的，干凈的進料空氣送入電解槽，空氣中的氧氣被吸附在陰極電子獲得，生成氫氧根離子和水的影響，并遷移到陽極，然后在陽極處失電子析出氧氣。只留...

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